氣相色譜中使用保護(hù)柱和保留間隙的方法

保護(hù)柱和保留間隙在氣相色譜中廣泛應(yīng)用。許多用戶都很難弄清楚保護(hù)柱與保護(hù)間隙究竟有什么區(qū)別,盡管在實際應(yīng)用時，兩者差別是很大的。保留間隙主要用于大體積（液體）直接進(jìn)樣時，富集樣品。保護(hù)柱主要是保護(hù)分析柱不受污染。應(yīng)用保留間隙系統(tǒng)時,保留間隙同樣也具有保護(hù)柱的功能,但是它的主要功能還是富集樣品。

保護(hù)柱和保留間隙必須同分析柱相聯(lián)接，此聯(lián)接會引入潛在的危險。一個新的解決辦法是直接把保留間隙整合在分析柱內(nèi)。通過局部涂層技術(shù)，固定相可被放置在分析柱的特定部位，使分析柱的進(jìn)樣口為惰性片段。不需要柱子連接，并且維護(hù)的費用也小。文章的*部分，我們研究比較一下保留間隙和保護(hù)柱的區(qū)別。第二部分,我們將總結(jié)保護(hù)柱并討論新的局部鈍化技術(shù)。

 

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